---------- Second Announcement ---------- The Bruker AXS GmbH cordially invites you to the following workshop, which will be held accompanying the 7th annual meeting of the "Deutsche Gesellschaft fuer Kristallographie, DGK" in Leipzig, Germany, 08.03. - 10.03.1999: "New methods in profile line analysis: From single profile analysis to Rietveld structure refinement" Workshop language is GERMAN! Further information is given in the announcement below and at http://www.ch.iucr.org/cww-top/mtg.de99a.html. You can also contact the organizer via EMail. -------------------------------------------------------- Im Rahmen der 7. Jahrestagung der Deutschen Gesellschaft fuer Kristallographie DGK laedt die Bruker AXS GmbH in Zusammenarbeit mit dem Institut fuer Anorganische Chemie der Universitaet Leipzig zu dem folgenden Workshop ein: "Neue Wege der Profilanalyse: Von der Einzellinienanpassung bis zur Rietveldverfeinerung" In dem Workshop wird eine neue Methodik zur Reflexprofilanpassung vorgestellt, die saemtliche Verfahren von der Einzellinienanalyse bis hin zur ab-initio Strukturloesung aus Pulverdaten als Teil der Rietveldverfeinerung umfasst. Basis ist eine vollstaendig neue Softwareentwicklung, TOPAS, die unter anderem die folgenden Moeglichkeiten bietet: 1) Simultane Verfeinerung von Pulver- und Einkristalldaten, die an Labor-R�ntgen-, Synchrotron- und Neutronenquellen erhalten wurden. Die Pulverdaten koennen entweder mittels Einzellinienanpassung, der LeBail- oder der Rietveldmethode angepasst werden. In Mehrphasengemischen kann fuer jede Phase eine der drei Anpassungsmethoden verwendet werden, d.h. die Kenntnis aller Kristallstrukturen aller Phasen ist nicht mehr Vorraussetzung zur mehrphasigen Rietveldanalyse. Dieses oeffnet voellig neue Horizonte z.B. im Bereich der quantitativen Analyse und der Strukturanalyse von Verbindungen, die sich nicht phasenrein herstellen lassen (z.B. durch Polymorphie) 2) Die Verwendung verschiedener Minimierungsverfahren ("Marquardt method", "line minimization", "parameter extrapolation" und "Sparse matrix methods" zur Verfeinerung tausender Parameter) resultiert zusammen mit weiteren Optimierungen in mehreren bemerkenswerten Eigenschaften: - Die numerische Geschwindigkeit ist ca. eine Groessenordnung hoeher als bei allen herkoemmlichen Rietveldprogrammen - Es wird keine Verfeinerungsstrategie mehr benoetigt, da jeder Parameterwert bzw. seine Aenderung laufend ueberwacht wird. Zusammen mit der rein numerischen Geschwindigkeit resultiert dieses in der Praxis in einem Geschwindigkeitsvorteil um den Faktor 100 (!) und mehr - Die Anzahl Pulverdiagramme, die Anzahl Messpunkte, Phasen und Peaks pro Diagramm, die Anzahl Atomlagen pro Phase und Atome pro Lage sind nicht limitiert. Damit ist es z.B. m�glich die Rietveldmethode vollautomatisert zur quantitativen Analyse in der Prozesskontrolle einzusetzen: Die Parameterzahl, Verfeinerungsstrategien und die Rechengeschwindigkeit sind keine limitierenden Faktoren mehr. 3) Die Anknuepfung von Energieminimierung- und "Simulated Annealing"-Verfahren an Bindungslaengenrestraints ermoeglicht nicht nur die Verfeinerung sehr grosser Strukturen, sondern auch eine ab-initio Strukturloesung als Teil der Rietveldverfeinerung, d.h. ohne vorhergehende Intensitaetsextraktion. Weiterhin koennen beliebige Rigid Bodies definiert werden, die beliebig verknuepfbar sind und um beliebige Achsen - auch gegeneinander- rotiert werden koennen. Abstaende in Rigid Bodies sind ebenfalls verfeinerbar. 4) Die Implementierung einer neuen Fundamentalparametermethode bietet die Moeglichkeit einer vollst�ndig faltungsbasierten Beschreibung beobachteter Reflexprofile. Instrumenten- und Probenbeitr�ge werden mit dem R�hrenemissionsprofil gefaltet, und erm�glichen so eine perfekte Beschreibung von Reflexlage, -asymmetrie und -profilform. Probeneigenschaften wie Absorption, Probendicke sowie phasenabh�ngige Gr��en wie Kristallitgr��e, Micro- und Macrostrain k�nnen standardlos verfeinert werden und besitzen eine physikalische Bedeutung. Der Workshop befasst sich ausfuehrlich mit den genannten Methoden am Beispiel ausgewaehlter Applikationen. -------------------------------------------------------- Ort: Institut fuer Anorganische Chemie Universitaet Leipzig Linnestrasse 3 D-04103 Leipzig Prof. Dr. J. Sieler Veranstalter: Dr. A. Kern, Dr. T. Taut, Bruker AXS GmbH Zeitplan: Sa., 06.03.1999, 09:00 - 19:00 So., 07.03.1999, 09:00 - 17:00 Teilnahmegebuehr: DM 200,-- (Studenten DM 100,--) Der Unkostenbeitrag enthaelt Unterlagen, Mittagessen und die Pausenverpflegung. Mindestteilnehmerzahl: 40 Personen Die Teilnahmebenachrichtigung erfolgt nach Erreichen der Mindestteilnehmerzahl. Innerhalb der sehr ausfuehrlichen Uebungen steht je zwei Teilnehmern ein komplett ausgeruesteter Pentium-PC zur Verfuegung. Anmeldung per Post oder Email bis 01.03.1999 an: Dr. A. Kern AXS GmbH Oestliche Rheinbrueckenstrasse 50 D-76187 Karlsruhe Fax: 0721 / 595 66 93 EMail: [EMAIL PROTECTED]
